为验证光轴指向误差对光学姿态测量精度的影响程度，并为后续实况类设备实现姿态测量提供理论依据，以中轴线法为依据，对算法步骤进行拆分，并对光轴指向误差的影响进行溯源，得出指向误差影响姿态处理结果可从两个方面进行分析。同时对模型内交会算法的直接影响和模型外动态基准的间接影响进行推导分析，将仿真计算和实测数据进行结合验证，获取了在典型中长远光学姿态测量中指向误差200″对姿态角误差不超过0.1°的结论，为现有姿态测量可靠性分析以及后续靶场设备能力拓展奠定了理论基础。

因单站成像的信息欠缺以及成像的对称性，光学单站姿态处理的二义性是普遍性难点问题，针对光学单站姿态处理二义性解问题，以目标主体直线矢量与姿态角对应关系为突破点，以主体直线矢量的物像映射关系为单站姿态处理基础，从处理结果界定局部二义性错误解，然后根据单站姿态求解关键步骤修正二义性解，修正前后处理结果与常规交会处理结果比较效果显著，在文中所述场景下，误差量级至少缩小20%，该方法为光学单站姿态处理获取正确解提供了可靠理论支持。

综述了非视域三维成像激光雷达技术的研究现状及进展。首先介绍了非视域成像技术的产生背景和基本概念，从多种实现技术中选出最接近激光雷达构型的基于激光脉冲飞行时间测量的非视域成像技术作为文中的综述重点。然后分别从成像系统和成像算法两个方面对国内外的研究进展进行了分析总结，可以看出，未来采用SPAD面阵进行无扫描阵列式非视域成像已成为必然的趋势，而能够适配SPAD面阵的非共焦重构算法也将成为研究重点。这种激光成像雷达新体制未来在**侦察、安防反恐、无人驾驶、灾难救援等领域将有着极其广泛的应用前景。

基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来，随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高，数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版，该技术极大地简化了光刻制版流程，提高了光刻的灵活性，广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控器件、组织生物研究等领域。从数字无掩膜光刻原理出发，简要介绍了典型匀光照明系统结构与微缩投影系统结构，进而介绍了面向平面光刻的空间分辨率增强技术、灰度光刻技术以及三维微立体光刻技术的进展。最后，列举了几类典型的数字无掩膜光刻应用，并对其发展方向进行了展望。

多光谱关联成像与传统点到点的成像方式不同，该技术是采用调制、解调的方式获取目标的图像信息。搭建了一套基于固定相位板的单次曝光多光谱关联成像系统，完成了多光谱关联成像系统中薄膜器件的研制。选择BK7玻璃作为基底材料，氧化铌(Nb₂O₅)和二氧化硅(SiO₂)为高、低折射率材料。根据光学薄膜基础理论，结合膜系设计软件进行膜系设计和模拟分析，通过建立膜系优化评价函数，实现了0°~30°入射450~700 nm带通滤光膜的设计，并在OZZSQ900型箱式真空镀膜机上完成了该薄膜的研制。通过优化SiO₂膜沉积速率，改善了薄膜表面缺陷，降低了散射损耗。对膜层的残余蒸镀进行分析，利用最小二乘法建立膜层厚度与残余蒸镀量之间拟合函数，调整监控方式，减小残余蒸镀，提高了制备过程中膜厚控制精度。采用安捷伦Cary5000分光光度计测试，在350~440 nm和710~800 nm波段透过率 T＜0.5%，450~700 nm范围内，光线入射角0°~30°时平均透过率 T >98%的带通滤波器，满足系统使用要求，该研究具有重要的实际意义和工程价值。